SMEE показала макет платформы сухой литографии; компания сообщает о 10 млн обработанных пластин

Китайский производитель полупроводникового оборудования Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) показала макет «универсальной технологической платформы литографического оборудования фронтальной сухой литографии нового поколения» на 9-й Китайской международной импортной выставке, сообщает JKN News. Выставка проходила в Национальном выставочном и конгресс-центре в Шанхае с 5 по 10 число. jkn.co.krJKN Newsnews.jkn.co.krОткрыть источник ↗ По словам SMEE, её оборудование уже работает на серийных линиях по выпуску логических микросхем и памяти в Китае.

Фронтальная литография формирует рисунок схем на полупроводниковых пластинах и относится к производственным операциям с самыми высокими технологическими барьерами. SMEE представляет платформу как шаг к локализации такого оборудования в Китае и заявляет, что может самостоятельно контролировать ключевые элементы, включая высокоточные объективы и системы освещения.

Показатели, заявленные SMEE

Компания утверждает, что качество изображения её оборудования сухой фронтальной литографии приближается к уровню ведущих международных образцов. По её словам, точность совмещения слоёв, от которой зависит выравнивание последовательных слоёв схемы, и производительность быстро подтягиваются к международным стандартам. SMEE также называет стабильность технологического процесса и надёжность в работе производственных линий.

По данным SMEE, несколько установок длительно эксплуатируются на крупных китайских серийных линиях логических микросхем и памяти. Компания сообщает, что суммарное число обработанных пластин превышает 10 млн, а коэффициент готовности оборудования превышает 92%. Эти цифры и оценки предоставлены самой SMEE. jkn.co.krJKN Newsnews.jkn.co.krОткрыть источник ↗

SMEE называет себя единственной в Китае компанией, способной стабильно выпускать серийное оборудование фронтальной сухой литографии. Она сообщает, что ведёт проектирование, исследования и разработку, производство, продажи и техническое обслуживание основного литографического оборудования.

Контекст выставки

В 9-й Китайской международной импортной выставке участвовали 162 страны, региона и международные организации, а также 4142 зарубежные компании. Выставочная площадь впервые превысила 440 000 квадратных метров, а полупроводниковое оборудование вошло в официальную экспозицию.

США и союзники, включая Нидерланды, ограничивают поставки в Китай оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) и части оборудования для передовой глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии. В прошлом месяце китайская компания Langdao Suiyan показала прототип системы источника света — ключевого компонента EUV-литографов. jkn.co.krJKN Newsnews.jkn.co.krОткрыть источник ↗