SMEE показала на China International Import Expo модель платформы сухой литографии нового поколения

Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) представила на 9-й Китайской международной импортной выставке (China International Import Expo), которая проходит 5–10 ноября, модель собственной «универсальной технологической платформы сухой литографии нового поколения для front-end». Об этом компания сообщила в соцсетях 9 ноября, пишет yna.co.kr yna.co.kryna.co.kryna.co.krОткрыть источник ↗. Экспонат — модель, а не серийная установка.

SMEE заявляет, что самостоятельно контролирует ключевую цепочку поставок, включая высокоточные объективы и системы освещения. По данным компании, форм-характеристики её установок сухой литографии сопоставимы с ведущими мировыми образцами, а точность совмещения слоёв и производительность близки к международным стандартам.

Компания сообщает, что несколько её установок стабильно работают на крупных китайских производствах логических микросхем и памяти, суммарно обработав более 10 млн пластин, при эффективной загрузке выше 92%. SMEE также утверждает, что она единственная в Китае способна стабильно серийно выпускать установки сухой литографии для front-end.

В прошлом месяце другая китайская компания, Langdao Suiyan, показала на выставке прототип системы источника света — ключевого узла установок EUV-литографии.