# SMEE показала на China International Import Expo модель платформы сухой литографии нового поколения

- Опубликовано: 2026-11-09 02:53 UTC
- Раздел: Машины и производство › Электроника
- Теги: SMEE, сухая литография, литография front-end, модель платформы литографии, China International Import Expo, обработка пластин, точность совмещения, оборудование для производства чипов, Langdao Suiyan, источник света EUV
- Адрес: https://realtech.media/ru/news/rt-3718b4272127a8126e3ea2f9_smee_pokazala_na/

**Shanghai Micro Electronics Equipment сообщила, что её установки сухой литографии обработали более 10 млн пластин; на выставке показан макет.**

![SMEE shows model of next-generation dry lithography platform at China International Import Expo](https://realtech.media/media/2026/11/ed1810c3683831e2.jpg)
*A ansems, Wikimedia Commons, Public domain*

Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) представила на 9-й Китайской международной импортной выставке (China International Import Expo), которая проходит 5–10 ноября, модель собственной «универсальной технологической платформы сухой литографии нового поколения для front-end». Об этом компания сообщила в соцсетях 9 ноября, пишет yna.co.kr [1]. Экспонат — модель, а не серийная установка.

SMEE заявляет, что самостоятельно контролирует ключевую цепочку поставок, включая высокоточные объективы и системы освещения. По данным компании, форм-характеристики её установок сухой литографии сопоставимы с ведущими мировыми образцами, а точность совмещения слоёв и производительность близки к международным стандартам [1].

Компания сообщает, что несколько её установок стабильно работают на крупных китайских производствах логических микросхем и памяти, суммарно обработав более 10 млн пластин, при эффективной загрузке выше 92%. SMEE также утверждает, что она единственная в Китае способна стабильно серийно выпускать установки сухой литографии для front-end [1].

В прошлом месяце другая китайская компания, Langdao Suiyan, показала на выставке прототип системы источника света — ключевого узла установок EUV-литографии.

## Источники

1. [yna.co.kr](https://www.yna.co.kr/view/AKR20261109057900089)

---

Источник: RealTech, realtech.media — https://realtech.media/ru/news/rt-3718b4272127a8126e3ea2f9_smee_pokazala_na/