# SMEE показала макет платформы сухой литографии; компания сообщает о 10 млн обработанных пластин

- Опубликовано: 2026-11-09 03:16 UTC
- Раздел: Машины и производство › Производство
- Теги: литография SMEE, фронтальная сухая литография, полупроводниковое оборудование, точность совмещения слоёв, объективы, система освещения, логические микросхемы и память, обработка пластин
- Адрес: https://realtech.media/ru/news/rt-2840d8f38290ba8d236216bf_smee_pokazala_maket/

**Shanghai Micro Electronics Equipment показала на выставке в Шанхае макет платформы фронтальной сухой литографии. Показатели приведены самой компанией.**

![SMEE shows model of dry lithography platform; company reports over 10 million wafers processed](https://realtech.media/media/2026/11/aca51b6f82fd7e6d.jpg)
*A ansems, Wikimedia Commons, Public domain*

Китайский производитель полупроводникового оборудования Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) показала макет «универсальной технологической платформы литографического оборудования фронтальной сухой литографии нового поколения» на 9-й Китайской международной импортной выставке, сообщает JKN News. Выставка проходила в Национальном выставочном и конгресс-центре в Шанхае с 5 по 10 число. [1] По словам SMEE, её оборудование уже работает на серийных линиях по выпуску логических микросхем и памяти в Китае. [1]

Фронтальная литография формирует рисунок схем на полупроводниковых пластинах и относится к производственным операциям с самыми высокими технологическими барьерами. SMEE представляет платформу как шаг к локализации такого оборудования в Китае и заявляет, что может самостоятельно контролировать ключевые элементы, включая высокоточные объективы и системы освещения. [1]

## Показатели, заявленные SMEE

Компания утверждает, что качество изображения её оборудования сухой фронтальной литографии приближается к уровню ведущих международных образцов. По её словам, точность совмещения слоёв, от которой зависит выравнивание последовательных слоёв схемы, и производительность быстро подтягиваются к международным стандартам. SMEE также называет стабильность технологического процесса и надёжность в работе производственных линий. [1]

По данным SMEE, несколько установок длительно эксплуатируются на крупных китайских серийных линиях логических микросхем и памяти. Компания сообщает, что суммарное число обработанных пластин превышает 10 млн, а коэффициент готовности оборудования превышает 92%. Эти цифры и оценки предоставлены самой SMEE. [1]

SMEE называет себя единственной в Китае компанией, способной стабильно выпускать серийное оборудование фронтальной сухой литографии. Она сообщает, что ведёт проектирование, исследования и разработку, производство, продажи и техническое обслуживание основного литографического оборудования. [1]

## Контекст выставки

В 9-й Китайской международной импортной выставке участвовали 162 страны, региона и международные организации, а также 4142 зарубежные компании. Выставочная площадь впервые превысила 440 000 квадратных метров, а полупроводниковое оборудование вошло в официальную экспозицию. [1]

США и союзники, включая Нидерланды, ограничивают поставки в Китай оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) и части оборудования для передовой глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии. В прошлом месяце китайская компания Langdao Suiyan показала прототип системы источника света — ключевого компонента EUV-литографов. [1]

## Источники

1. [JKN News](https://news.jkn.co.kr/editions/english/post/1079922)

---

Источник: RealTech, realtech.media — https://realtech.media/ru/news/rt-2840d8f38290ba8d236216bf_smee_pokazala_maket/